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HMDS真空涂膠烘箱的認(rèn)識及預(yù)處理系統(tǒng)操作流程

                       HMDS真空涂膠烘箱的認(rèn)識及預(yù)處理系統(tǒng)操作流程

隨著時(shí)間的推移,客戶定制化需求也越來越強(qiáng)烈,市場對HMDS真空涂膠烘箱的應(yīng)用需求也比較廣泛了,而這款真空烘箱也主要用于半導(dǎo)體行業(yè),HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。 

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)操作流程:
 1、首先確定烘箱工作溫度;
 2、預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_真空泵抽真空,待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后,開始充入氮?dú)?,充到達(dá)到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,開始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分;
 3、再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入HMDS藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與HMDS反應(yīng);
 4、當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,再次開始抽真空。充入氮?dú)?,完成整個(gè)作業(yè)過程。  

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